MOSFET dv/dt能力及其失效模式
一、MOSFET dv/dt能力及其失效模式
什么是MOSFET的dv/dt能力?
当MOSFET器件工作在高频电路中时,漏-源极电压会有很高的变化速率,dv/dt指的是MOSFET漏-源极所允许的电压最高变化速率,若是超过这个速率就会导致器件烧毁失效。
失效模式
dv/dt失效通常发生在硬开关应用中,其中两个MOSFET用于半桥配置,如下图。

高侧和低侧MOSFET交替导通和关断,实现输出电压Vout在高低之间快速转换。
当高侧和低侧MOSFET交替导通和关断频率过快(开关速度过快)时,会产生较高的dv/dt。当dv/dt大于低侧MOSFET允许的最高电压变化速率时,就会发生高侧器件还未完全关闭,低侧器件就已经短暂导通现象,这时输入电源与地短路,产生大电流将流过半桥使两个器件烧毁。
dv/dt导致器件短暂导通模式主要有两种:MOSFET器件开启、寄生三极管(BJT)开启。
1、 MOSFET器件开启
在MOSFET的结构中,存在寄生电容Cgd、电阻Rg,如下图:

如上图,当器件漏极dv/dt过大时,由于Cgd电容的充放电,栅极会产生感应电流I:
I=Cgd×dv/dt
由于栅电阻Rg的存在,电流I流过Rg会在栅极产生尖峰电压Vgs:
Vgs=I×Rg= Cgd×dv/dt×Rg
当栅极电压Vgs超过器件的阈值电压Vth时,器件将被迫导通,使器件烧毁。由上式可以得到电路所允许的最大频率:

在此失效模式下,如果想提高MOSFET器件dv/dt能力,可以通过降低栅电阻Rg,栅-漏电容Cgd以及提高器件阈值电压VTH实现。VTH与环境温度程负相关,因此器件dv/dt能力随温度的升高而降低。
2、寄生三极管(BJT)开启
在MOSFET的结构中,存在寄生三极管(BJT)、电容Cds,如下图:

如上图,当器件漏极dv/dt过大时,由于电容Cds的充放电,P-区会产生感应电流Ib:
Ib=Cds×dv/dt
由于P-区电阻Rb的存在,电流Ib流过Rb会在两端产生电压差Vbe;
Vbe=Ib×Rb= Cds×dv/dt×Rb
当Rb两端电压差Vbe大于三极管的开启电压Vbi时,寄生三极管开启,使器件烧毁。由上式可以得到电路所允许的最大频率:
在此失效模式下,如果想提高MOSFET器件dv/dt能力,可以通过降低P-区电阻Rb、源-漏电容Cds实现。电阻Rb与环境温度程正相关,因此器件dv/dt能力随温度的升高而降低。
素材来源:功率半导体社

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